GB/T 13388-2009《硅片参考面结晶学取向X射线测试方法》

Method for measuring crystallographic orientation of flats on single-crystal silicon slices and wafers by X-ray techniques

标准类型：国家标准

标准属性：推荐性

标准状态：现行

国家标准《硅片参考面结晶学取向X射线测试方法》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，主管部门为国家标准委。

主要起草单位有研半导体材料股份有限公司。

主要起草人孙燕、卢立延、杜娟、翟富义、高玉锈。

基础信息

标准号：GB/T 13388-2009发布日期：2009-10-30实施日期：2010-06-01全部代替标准：GB/T 13388-1992标准类别：方法中国标准分类号：H80国际标准分类号：29.045 归口单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会执行单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会主管部门：国家标准委

采标情况

本标准修改采用其他国际标准：SEMI MF847-0705。采标中文名称:硅片参考面晶向X射线测试方法。

起草单位

有研半导体材料股份有限公司

起草人

孙燕卢立延高玉锈杜娟翟富义

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